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  • WS-1000MLaurell-WS半导体湿法刻蚀系列

    自1985年起,Laurell公司向遍布所有的生物化工和半导体材料科研领域的实验室提供表面涂敷工艺的解决方案,目前,*有超过15000套系统正在安全运行。WS-1000M Laurell-WS半导体湿法刻蚀系列,全白色聚丙烯构造,可内置任何Laurell公司的旋涂机及显影机,排放简便的入氮口和DI喷头,如果需要单工的系统,可选择WS-1000湿法刻蚀设备,WS-1000系列旋转处理湿法设备可以

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    更新日期: 2024-04-15
  • WS-1000Laurell 湿法刻蚀设备

    自1985年起,Laurell 湿法刻蚀设备是生物化工和半导体材料科研领域的实验室提供表面涂敷工艺的解决方案,目前,*有超过15000套系统正在安全运行。

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