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    射频等离子体蚀刻机Quorum K1050X可以用于使用反应气体(例如CF 4) 去除硅层,以及用于使用氧气去除光刻胶。 等离子灰化是指使用氧气或空气对有机材料进行可控的低温去除,其广泛应用于研究和质量控制领域。RF等离子还可用于塑料和聚合物的表面改性-以及清洁TEM和SEM样品以及样品支架。

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    TEM清洗机GloQube®Plus是一种经济高效,紧凑且易于使用的辉光放电系统,旨在满足使用TEM的实验室的需求。GloQube®Plus的主要应用是修改TEM网格的表面,使其满足成功成像的要求。

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