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  • NXQ4000系列NXQ Mask Alignment光刻机

    MYCRO*美国恩科优NXQ Mask Alignment光刻机,是quanqiu优越的光刻系统,在光刻领域有超过35年的经验,quanqiu售出1000多套设备,为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统,广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体(LED)芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。

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    更新日期: 2024-04-15
  • NXQ400-8NXQ掩膜对准曝光机

    MYCRO*美国恩科优N&Q系列光刻机(Mask Aligner),是*的光刻系统,在光刻领域有超过35年的经验,售出1000多套设备,为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统,广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体(LED)芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。

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    更新日期: 2024-04-15
  • NXQ800-6NXQ光刻机

    MYCRO*美国NXQ光刻机(Mask Aligner),是*的光刻系统,在光刻领域有超过35年的经验,已售出1000多套设备,为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统,广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体(LED)芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。

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