UV-LED 的紧凑型掩膜对准系统

u非常紧凑实用的系统

u在365nm处*单色曝光

u可处理4英寸晶圆

u硬（物理）接触或软（接近）接触模式

u兼容所有光刻胶

u分辨率：2µm

u对准分辨率：< 3µm

u由PAD引导

UV-KUB 3是一种基于掩膜对准系统的UV-LED，具有365nm的可用光源。 这是一个非常紧凑的桌面系统，兼容4英寸晶圆和100x100 mm²工作表面。由于特定的光学装置可提供最大发散角小于2° 的准直光束，因此可实现的最小特征尺寸为2 µm。UV-KUB 3系统兼容硬（物理）接触或软（接近）接触模式，并提供低至3 µm的对准分辨率。 该掩膜对准器系统支持所有标准光刻胶，例如AZ、Shipley、SU-8和K-CL。

掩膜对准器UV-KUB 3是第一款配备UV-LED光源的掩膜对准系统，可在国际市场上提供一个好的的准直和均匀曝光。这款新一代掩膜对准器*由触摸屏操作进行曝光，通过操纵板控制进行对准操作。由于其防尘罩，该设备*安全，是市场上wei 一使精密光刻而无需洁净室类型环境的解决方案。

技术突破：

1、高质量准直器

· 发散角小于2°，保证了在厚层上实现分辨率低至1µm和边缘垂直度极 jia的图案。

· 这种高质量的准直允许在不需要真空接触模式的情况下达到微米级的分辨率。

2、LED技术

·完 mei的单色曝光光源

·冷紫外线源，防止不良热效应

·可以在连续或脉冲模式下运行

·寿命长：uv-led光源不属于消耗品

3、分辨率和对准精度

·这种新一代掩模对准器能够在整个4"或6"工作表面上实现低于1µm的微结构，对准精度小于1µm

特征：

▪ 晶圆表面区域的完 mei单色曝光，带宽低于10 nm

▪由PAD引导的视频辅助定位系统

▪ 冷紫外线照射和基板环境的实时原位温度控制，在整个表面上的均匀照射，因此消除了任何不良的热效应

▪ 强大的功率密度

▪LED寿命长：受控实时使用时间超过10 000小时

▪ 用户友好型触摸屏界面，可设置曝光循环编程（连续或循环曝光）

▪ 无需预热时间

▪ 紫外线源强度调节的计算机控制，很直观

▪ 紫外线照射室*密封：保证用户安全

▪ 自动晶圆装载和卸载系统

▪ 低消耗

工艺应用：

UV-KUB 3系统非常适合实验室和研发团队的广泛应用，这些应用涉及光学、生物技术、微电子、需要多层掩膜、晶圆键合、简单层或粘合剂固化、连接、组装和生物或细胞培养的光刻工艺。

技术参数：

UV-LED光源：

工作处理表面：

其他参数：

·尺寸：475(L)x 480(W)x 515(H)毫米

·重量：55千克/121磅

·彩色触摸屏：15.6英寸

·功率密度：35 mW/cm2+/-10%

·电源：100 v/240 V-50 Hz/60 Hz

·功率：180 W

·可与镀铬的和柔性薄膜掩膜版兼容