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详细介绍
基于PID处理控制器的Solaris GUI可以存储程序,每套程序可以支持高达100个步骤的设定,带USB2.0的接口。包含Solaris GUI软件,与微软Windows操作系统兼容。通过该软件,通过链接电脑可以非常方便地实现程序编辑以及数据记录。
技术规格:
-温度:1200摄氏度;
-升温速率:150摄氏度/秒;
-温控均匀性:±2.5℃设定温度;
-加热方式:红外卤素灯,顶部及底部区域加热;
-处理时间:0.1秒至无*;
-灯管数量及功率:13支,
-腔体冷却:风冷方式;
-衬底冷却:氮气吹扫;
-工艺气路:MFC控制,多6路(氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等);
型号 |
Solaris 100 |
Solaris 150 |
Solaris 150UV |
Solaris 200 |
Solaris Eclipse |
处理大样品尺寸 |
100mm |
150mm |
150mm |
200mm |
200mm |
温度(℃) |
室温~1200℃/s |
室温~1200℃/s |
室温~1200℃/s |
室温~1200℃/s |
室温~1200℃/s |
工艺气体 |
1~4路 |
1~6路 |
1~6路 |
1~6路 |
|
红外卤素灯 |
13支 |
21支 |
28支 |
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红外卤素灯冷却方式 |
风冷 |
风冷 |
风冷 |
风冷 |
风冷 |
温度控制 |
PID数控 |
PID数控 |
PID数控 |
PID数控 |
PID数控 |
温度精度 |
±2℃ |
±2℃ |
±2℃ |
±2℃ |
±2℃ |
热电偶 |
K型热电偶 |
K型热电偶 |
K型热电偶 |
K型热电偶 |
K型热电偶 |
臭氧功能 |
有,蚀刻速率> 25-50A /min |
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机器外观 |
台式机 |
台式机 |
台式机 |
台式机 |
台式机 |
应用领域:
快速热退火(Rapid Thermal Annealing,RTA);
快速热氧化(Rapid Thermal Oxidation,RTO);
快速热氮化(Rapid Thermal Nitridation,RTN);
硅化(Silicidation);
扩散(Diffusion);
化合物半导体退火(Compound Semiconductor Annealing);
离子注入后退火(Implant Annealing);
电极合金化(Contact Alloying);
晶向化和坚化(Crystallization and Densification);
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