自1985年起，Laurell 湿法刻蚀设备是生物化工和半导体材料科研领域的实验室提供表面涂敷工艺的解决方案，目前，*有超过15000套系统正在安全运行。

Laurell-EDC匀胶显影机系列匀胶显影系统适用于半导体前段制程的匀胶，显影，刻蚀，冲洗，甩干等工艺，可通过程序控制多路试剂的显影和湿法腐蚀，我们有着近三十年半导体湿法工艺的经验积累，通过对各路试剂注射的控制，对氮气和去离子水综合应用，能够完整实现样片的干进干出。是当今*和经济的湿法处理解决方案。

Laurell匀胶显影机EDC产于美国，是原装的湿法刻蚀设备美国Laurell,Inc总部位于美国宾夕法尼亚，成立于1985年，是一家专业提供化工半导体材料清洁涂敷处理等特殊工艺的公司。公司拥有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各类显影系统，目前客户已遍布。还有WS-1000湿法刻蚀设备，WS-1000m湿法刻蚀设备等多种半导体湿制成设备。

EDC湿法刻蚀显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。